Nome del prodotto: bersaglio per sputtering di disprosio
Soprannome del prodotto: target disprosio, target Dy, target vuoto di disprosio
Colore: argento
Punto di fusione: 1420 gradi
Punto di ebollizione: 2840 gradi
Densità: 8,55 g/cm3
Purezza: Dy/TREM Maggiore o uguale al 99,99% TREM Maggiore o uguale al 99,9%
Density: >99.5%
Granulometria media:<200μm
Rugosità indicata:<2μm
Forma: bersagli quadrati, bersagli rotondi e bersagli rotanti con specifiche diverse possono essere personalizzati in base alle esigenze del cliente
Caratteristiche tecniche: migliorare la tecnologia di fusione sotto vuoto target, sviluppare una lavorazione della plastica pulita e una tecnologia di lavorazione di precisione.
Usi del bersaglio del disprosio:
Il bersaglio del disprosio viene utilizzato per infiltrare il disprosio nei materiali NdFeB attraverso la tecnologia di diffusione dei confini del grano sputtering del magnetron per ottenere l'effetto di migliorare la coercività. È un'importante fonte di sputtering per materiali NdFeB ad alte prestazioni ed è ampiamente utilizzato nelle industrie di produzione di materiali magnetici NdFeB.
Il rivestimento sputtering target di disprosio può migliorare le prestazioni dei magneti NdFeB e ridurre l'uso di terre rare medie e pesanti preziose. La parte al neodimio dei magneti NdFeB può essere sostituita con disprosio per aumentare la forza coercitiva e quindi migliorare la resistenza al calore del magnete. È ampiamente utilizzato nei veicoli a nuova energia, nelle ferrovie ad alta velocità, nell'elettronica 3C, nell'intelligenza artificiale e in altri campi.
Diffusione al bordo del grano:
Formando una pellicola sottile di elementi pesanti di terre rare (disprosio, terbio) sulla superficie dell'acciaio magnetico e dopo il trattamento termico sotto vuoto, gli elementi pesanti di terre rare si diffondono principalmente lungo la fase di confine del grano a basso punto di fusione, quindi sostituiscono il principale bordi del grano di fase. Gli atomi di Nd formano un guscio ad alta forza coercitiva. Questa microstruttura unica può aumentare notevolmente la forza coercitiva del magnete sulla base di una caduta di magnetizzazione residua estremamente bassa. Questa tecnologia può aumentare significativamente la coercività consumando una quantità molto piccola di terre rare pesanti senza causare una diminuzione significativa della rimanenza.
Il processo di diffusione dei bordi dei grani si è sviluppato attraverso lo sputtering del magnetron, l'evaporazione, il rivestimento, l'elettrodeposizione e altri metodi. Le materie prime pesanti delle terre rare utilizzate per la diffusione ai bordi dei grani solitamente includono: fluoruro, idruro, ossido, metallo puro e sue leghe.
Lo sputtering del magnetron è un tipo di deposizione fisica da vapore (PVD). La diffusione dei bordi dei grani mediante sputtering del magnetron si riferisce alla generazione di scarica luminescente attraverso la tensione in condizioni di vuoto, alla ionizzazione del gas argon e al bombardamento degli ioni argon. I bersagli di disprosio e terbio emettono atomi, gruppi atomici o gruppi atomici parzialmente ionizzati di disprosio e terbio e vengono accelerati da campi magnetici o campi elettrici per depositare film sottili pesanti di disprosio e terbio di terre rare sulla superficie del substrato magnetico NdFeB. Il disprosio e il terbio sono attaccati in questo modo alla superficie del NdFeB. Nel successivo processo di diffusione, poiché l'attività dei metalli pesanti di disprosio e terbio delle terre rare è superiore a quella dei composti pesanti delle terre rare, migliora la consistenza dell'aumento della forza coercitiva di NdFeB. Presenta vantaggi nel ridurre l'impatto sulla struttura superficiale del NdFeB dopo la diffusione.
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